دانلود مقالات ISI HfO2: 279 مقاله انگلیسی + ترجمه فارسی

HfO2

در این صفحه تعداد 279 مقاله تخصصی درباره که در نشریه های معتبر علمی و پایگاه ساینس دایرکت (Science Direct) منتشر شده، نمایش داده شده است. برخی از این مقالات، پیش تر به زبان فارسی ترجمه شده اند که با مراجعه به هر یک از آنها، می توانید متن کامل مقاله انگلیسی همراه با ترجمه فارسی آن را دریافت فرمایید.
در صورتی که مقاله مورد نظر شما هنوز به فارسی ترجمه نشده باشد، مترجمان با تجربه ما آمادگی دارند آن را در اسرع وقت برای شما ترجمه نمایند.

مقالات ISI (ترجمه نشده)

مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.

Characterization of the interface between the Hf-based high-k thin film and the Si using spatially resolved electron energy-loss spectroscopy

Keywords: High-k dielectric; Interface; Electron energy-loss spectroscopy; HfO2; HfAlO

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Thickness dependence of high-k materials on the characteristics of MAHONOS structured charge trap flash memory

Keywords: NVM; TBE; CTF; HfO2; Al2O3;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Evolution of SiO2/Ge/HfO2(Ge) multilayer structure during high temperature annealing

Keywords: Ge; Segregation; HfO2; XPS; Depth profiling; Raman spectroscopy

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Low-temperature deposition of stoichiometric HfO2 on silicon: Analysis and quantification of the HfO2/Si interface from electrical and XPS measurements

Keywords: High-Îº; Dielectrics; HfO2; SiO2; Sputtering; XPS; Depth profile;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Effect of fluorinated silicate glass passivation layer on electrical characteristics and dielectric reliabilities for the HfO2/SiON gate stacked nMOSFET

Keywords: Fluorinated silicate glass; HfO2; Threshold voltage instability

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Studies of the phosphorescence of polycrystalline hafnia

Keywords: Hafnia; HfO2; Phosphorescence; Photoluminescence; Sintering; Thermoluminescence; Defects;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Effects of N2-annealing conditions on the sensing properties of Pt/HfO2/SiC Schottky-diode hydrogen sensor

Keywords: Hydrogen sensors; Silicon carbide; Schottky diode; HfO2

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

HfO2-based gate stacks transport mechanisms and parameter extraction

Keywords: Direct Tunneling current; Temperature dependency of tunneling current; Interfacial layer; HfO2; SiOx

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Structural and electrical properties of HfO2/Dy2O3 gate stacks on Ge substrates

Keywords: Germanium; Dy2O3; HfO2; Rare-earth oxides; Transmission Electron Microscopy; X-ray reflectivity; Electrical properties and measurements

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Synthesis of carbon-rich hafnia thin films by pulsed laser deposition

Keywords: Films; Transition metal oxides; Carbon; Refractories; HfO2

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 12 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Characterization of interfacial reaction and chemical bonding features of LaOx/HfO2 stack structure formed on thermally-grown SiO2/Si(1 0 0)

Keywords: High-k dielectric; HfO2; LaOx; Interfacial reaction; X-ray photoelectron spectroscopy

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

The electronic properties of the interface structure between ZnO and amorphous HfO2

Keywords: Interface; ZnO; HfO2; O-vacancy; First-principles calculations

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Electrical characterization of metal-ferroelectric (Mn-substituted BiFeO3)-insulator (HfO2)-semiconductor capacitors for nonvolatile memory applications

Keywords: BiFeO3; HfO2; Memory window

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Chemical structure and electrical properties of sputtered HfO2 films on Si substrates annealed by rapid thermal annealing

Keywords: HfO2; RTA; Chemical structure; C–V; J–V

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Compositional, structural and electronic characteristics of HfO2 and HfSiO dielectrics prepared by radio frequency magnetron sputtering

Keywords: HfO2; HfSiO; Gate dielectric; Radio frequency magnetron sputtering

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Study of luminescent defects in hafnia thin films made with different deposition techniques

Keywords: 78.55._m; 78.67.Bf; 61.80.Ba; HfO2; Thin film; Optical applications; Laser damage; Luminescence; Crystallinity;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Annealing effect on physical and electrical characteristics of thin HfO2, HfSixOy and HfOyNz films on Si

Keywords: HfO2; Gate oxide; High-k; Annealing; Leakage current; Bandgap

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Interface roughness effect between gate oxide and metal gate on dielectric property

Keywords: Interface roughness; Gate oxide; Metal gate; HfO2; Ru

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Radioluminescence and photoluminescence of hafnia-based Eu-doped phosphors

Keywords: 61.05.cp; 78.20.Ek; 78.55.Hx; HfO2; Eu3+; Luminescence; Radioluminescence;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

The effects of hydroxyl-free polystyrene buffer layer on electrical performance of pentacene-based thin-film transistors with high-k oxide gate dielectric

Keywords: Pentacene-based thin-film transistors; Polystyrene buffer layer; Field effect mobility; Hysteresis; Gate leakage current; HfO2

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Determination of complex dielectric functions at HfO2/Si interface by using STEM-VEELS

Keywords: Complex dielectric functions; Dielectric constant; HfO2; STEM; VEELS

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Defects and instabilities in Hf-dielectric/SiON stacks (Invited Paper)

Keywords: Traps; PBTI; NBTI; Positive charges; Instability; Defects; HfO2; Hf-silicates; High-k dielectrics

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Investigations of GaN metal-oxide-semiconductor capacitors with sputtered HfO2 gate dielectrics

Keywords: GaN; MOS; HfO2; Sputter

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Thermal conductivity and thermal cycle life of La2O3 and HfO2 doped ZrO2-Y2O3 coatings produced by EB-PVD

Keywords: Thermal barrier coatings; Thermal conductivity; Precipitates; Sintering; La2O3; HfO2; EB-PVD;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Determination of electron effective mass and electron affinity in HfO2 using MOS and MOSFET structures

Keywords: 72.20.−i; 77.55.+fHigh-k gate stacks; HfO2; Reverse modeling; Direct tunneling; Electron effective mass; Electron affinity; Bulk properties; 32 nm and 22 nm technology nodes

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Reliability of charge trapping memories with high-k control dielectrics (Invited Paper)

Keywords: Non-volatile memories; Flash memories; High-k; Interpoly dielectrics; Control dielectrics; Hafnium aluminate; HfAlO; Al2O3; HfO2; Silicon nanocrystals; SONOS; SANOS; Charge trap memory; Nitride trap memory; Retention

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Investigation of atomic vapour deposited TiN/HfO2/SiO2 gate stacks for MOSFET devices

Keywords: High-k; HfO2; Gate-last; AVD; TiN

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Influence of initial surface reconstruction on the interface structure of HfO2/GaAs

Keywords: 68.55.aj; 73.40.Qv; 77.55.+f; 78.68.+m; 81.05.Ea; 81.15.Ef; 85.30.Tv; High-k dielectrics; III-V semiconductor; HfO2; GaAs; MOS interface; XPS; RDS;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Interface characterization and current conduction in HfO2-gated MOS capacitors

Keywords: 68.47.Fg; 68.35.Gy; 68.47.Gh; HfO2; High-Îº; Interface traps density; Near-interface oxide traps;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Metal carbide-induced negative flatband voltage shift in TaCx and HfCx/HfO2 gate stacks

Keywords: Metal carbide; HfO2; Effective work function;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

The effect of blocking layer of Al2O3 on thermal stability and electrical properties of HfO2 dielectric films deposited on SiGe layer

Keywords: 77.55.+f; 73.40.QvGate dielectrics; HfO2; Blocking layer; Al2O3

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Origin of flat band voltage shift in HfO2 gate dielectric with La2O3 insertion

Keywords: Metal gate; High-k; Flat band voltage; HfO2; La2O3; Electronegativity

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Effect of biasing voltages and electrode metals and materials on the sensitivity of electron beam evaporated HfO2 thin film CO sensor

Keywords: Thin film; CO sensor; HfO2; Semiconductor sensor

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

High-k-oxide/silicon interfaces characterized by capacitance frequency spectroscopy

Keywords: MOS; High-k; HfO2; Gd2O3; Capacitance frequency spectroscopy; Capture cross section

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Overview about the optical properties and mechanical stress of different dielectric thin films produced by reactive-low-voltage-ion-plating

Keywords: Ion plating; Optical properties; Mechanical properties; Dielectric thin film; Ta2O5; Nb2O5; HfO2

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Structural and electronic properties of cubic HfO2 surfaces

Keywords: 68.35.Md; 68.47.Gh; 73.20.At; 81.10.Aj; High Îº; HfO2; Surfaces; First-principles;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Statistical modeling of the electrical characteristics for HfO2 thin films grown by MOMBE for high-k dielectric applications

Keywords: Process modeling; Regression model; Statistical analysis; HfO2; MOMBE

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Thermal annealing effect on electrical properties of metal nitride gate electrodes with hafnium oxide gate dielectrics in nano-metric MOS devices

Keywords: Nano-electronic device applications; High dielectrics materials; HfO2; Metal nitride gates

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Electrical characteristics related to silicon film thickness in advanced FD SOI–MOSFETs

Keywords: MOSFET; SOI; Ultra-thin silicon; HfO2; Metal gate

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

HfO2 gate insulator formed by atomic layer deposition for thin-film-transistors

Keywords: 81.05.-tThin-film-transistor; ALD; High-k oxide; HfO2

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Challenges and performance limitations of high-k and oxynitride gate dielectrics for 90/65 nm CMOS technology

Keywords: Gate dielectric materials; SiON; HfSiON; HfO2; High-k; Mobility; Reliability

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Band bending and band alignment at HfO2/HfSixOy/Si interfaces

Keywords: 73.20.At; 77.55.+f; 77.22.Jp; Band bending; HfO2; Space charge;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Nickel silicide nanocrystals embedded in SiO2 and HfO2 for nonvolatile memory application

Keywords: Nonvolatile memory; Nanocrystals; HfO2

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Innovative dielectrics for semiconductor technology

Keywords: High κ dielectrics; HfO2; Buried cavities; Low κ dielectrics; Positron annihilation spectroscopies; Doppler broadening spectroscopy; Doppler broadening spectroscopy in coincidence; Slow positrons

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Neural network based modeling of HfO2 thin film characteristics using Latin Hypercube Sampling

Keywords: HfO2; Process modeling; Neural networks; Latin Hypercube Sampling

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Observation of the interfacial layer in HfO2(10 nm)/Si by high-resolution RBS in combination with grazing angle sputtering

Keywords: 68.49.−h; 68.49.Sf; 68.35.−pHigh-resolution RBS; Grazing angle sputtering; Depth resolution; HfO2

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Integration issues of high-k and metal gate into conventional CMOS technology

Keywords: High-k; Metal gate; Integration; CMOSFET; Gate-first; HfO2; Silicate

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Effect of RuO2 electrode on laser-MBE prepared HfO2 gate dielectrics

Keywords: Metal gate; RuO2; HfO2; Gate dielectrics; Laser molecular beam epitaxy