کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7748221 | 1498754 | 2013 | 15 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Metal ALD and pulsed CVD: Fundamental reactions and links with solution chemistry
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
HFACMOSCHDCPETFODPVDNBUOTFAMDRDRAMTHDCyclopentadienylIPRtBuCyclooctatetraeneUHVPlasma-enhanced ALDQMSVTMSDPPETriflaten-butylPEALD1,3-CyclohexadienePentamethylcyclopentadienylCp′tert-butylCOTSAMAcAcNHCTFELMethylcyclopentadienyl1,2-Bis(diphenylphosphino)ethane - 1،2-Bis (دی فینیل فسفین) اتان1,5-Cyclooctadiene - 1،5-CyclooctadieneAes - AESCp* - CP *N-heterocyclic carbene - N-هتروسیکلریک کاربنALD - آدرنولکودیستروفیAllyl - آللیethyl - اتیلacetylacetonate - استیل ساتوناتIndium tin oxide - اکسید قلع ایندیومIso-propyl - ایزوپروپیلITO - اینTem - این استSelf-assembled monolayer - تک لایه ی خودمختارUltra-high vacuum - خلاء فوق العاده بالاIPSA - خودشSBU - دانشگاه شهید بهشتیCVD - رسوب دهی شیمیایی بخار metal deposition - رسوب فلزAtomic layer deposition - رسوب لایه اتمیChemical vapour deposition - رسوبات بخار شیمیاییPhysical vapour deposition - رسوبات بخار فیزیکیCMOS - سیماس یا نیمرسانای اکسید فلزی مکمل Quadrupole mass spectrometry - طیف سنج جرمی QuadrupoleAtomic emission spectroscopy - طیف سنجی انتشار اتمیX-ray photoelectron spectroscopy - طیف سنجی فوتوالکتر اشعه ایکسXPS - طیف نگاری فوتوالکترونی اشعه ایکسMetal–insulator–metal - فلز مقرهphenyl - فنیلInfrared - مادون قرمز (فروسرخ)Methyl - متیلReaction pathways - مسیرهای واکنشSolution studies - مطالعات راه حلMIM - منquartz crystal microbalance - میکرو ترازوی کریستال کوارتز، کوارتز کریستال میکرو بالانسQCM - میکروبازار کریستال کوارتزTransmission electron microscopy - میکروسکوپ الکترونی عبوریPIN - پینCod - کادو
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی معدنی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition technique which operates via repeated alternating and self-terminating surface-based reactions between a precursor and a co-reactant, separated in time by purge steps. This technique is particularly well-suited to the deposition of highly uniform and conformal thin films, even on surfaces with nano-scale high aspect ratio features. Furthermore, use of a metal precursor and a co-reactant in ALD and the related technique of pulsed-CVD (pulsed-chemical vapour deposition), provides the potential for deposition of materials that may be inaccessible using CVD methods that rely upon the thermal decomposition of a single metal precursor. This review surveys the different classes of co-reactant used for thermal metal ALD/pulsed-CVD with a focus on the reaction chemistries known or proposed to be involved. Parallels are drawn between surface-based metal ALD/pulsed-CVD reactivity and solution-based reactivity including electroless deposition, solution-based nanoparticle synthesis, and the synthesis of zero-valent complexes bearing labile ligands. Also described are applications of solution screening and solution mechanistic studies to the identification of promising new ALD/pulsed-CVD reactivities, and the generation of initial mechanistic hypotheses as to the fundamental reaction steps involved in metal ALD/pulsed-CVD. A primary goal of this review is to provide a unique reactivity-based perspective of metal ALD/pulsed-CVD. In addition, we have endeavoured to illustrate commonalities between solution-based and surface-based reactions relevant to metal deposition, and to highlight beneficial applications of the former to the development of the latter.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Coordination Chemistry Reviews - Volume 257, Issues 23â24, December 2013, Pages 3282-3296
Journal: Coordination Chemistry Reviews - Volume 257, Issues 23â24, December 2013, Pages 3282-3296
نویسندگان
David J.H. Emslie, Preeti Chadha, Jeffrey S. Price,