دانلود مقالات ISI درباره دی الکتریک بالا K + ترجمه فارسی

Electrical and physical properties of HfO2 as gate dielectrics using various thickness of TaN electrodes for MIS capacitors

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; HfO2; TaN; PMA

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Influence of interlayer properties on the characteristics of high-k gate stacks

Keywords: دی الکتریک بالا K; MOS; High-k dielectric; Interlayer; C–V; Tunneling probability

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Low power flexible organic thin film transistors with amorphous Ba0.7Sr0.3TiO3 gate dielectric grown by pulsed laser deposition at low temperature

Keywords: دی الکتریک بالا K; Flexible organic transistor; High-k dielectric; Low operating power; Pulsed laser deposition; Bending test

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

High resolution Rutherford Backscattering Spectrometry investigations of ZrO2 layer growth in the initial stage on native silicon oxide and titanium nitride

Keywords: دی الکتریک بالا K; High Resolution Rutherford Backscattering Spectrometry; High-k dielectric; Atomic layer deposition; Zirconium dioxide

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

GIDL behavior of p- and n-MuGFET devices with different TiN metal gate thickness and high-k gate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; SOI Multiple Gate FET (MuGFET); TiN metal gate; High-k dielectric; GIDL; Channel width;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Impact of nitrogen post deposition annealing on hafnium zirconate dielectrics for 32 nm high-performance SOI CMOS technologies

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Annealing; Gate leakage; Performance; Reliability; SOI CMOS

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Stackable nonvolatile memory with ultra thin polysilicon film and low-leakage (Ti, Dy)xOy for low processing temperature and low operating voltages

Keywords: دی الکتریک بالا K; UTB TFT; High-k dielectric; Metal nanocrystals; Nonvolatile memory low-temperature process

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Effect of biasing at elevated temperature on the electronic structure of Pt/HfO2/Si stacks

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Oxygen vacancies; Band alignment; HAXPES; BTS

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

High resolution photoemission study of the thermal stability of the HfO2/SiOx/Si(111) system

Keywords: دی الکتریک بالا K; Synchrotron radiation photoemission; Hafnium oxide; High-k dielectric;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Reliability and gate conduction variability of HfO2-based MOS devices: A combined nanoscale and device level study

Keywords: دی الکتریک بالا K; MOS devices; Atomic Force Microscopy; Reliability; Variability; High-k dielectric; High-k crystallization

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Temperature and voltage dependences of the capture and emission times of individual traps in high-k dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; NBTI; PBTI; High-k dielectric; nFET; pFET; MOSFET; Trap; Emission time; Capture time

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Improvement on low-temperature deposited HfO2 film and interfacial layer by high-pressure oxygen treatment

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; HfO2; O3 passivation; X-ray photo-emission spectroscopy (XPS)

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

The effect of Se and Se/Al passivation on the oxidation of Ge

Keywords: دی الکتریک بالا K; XPS; High-k dielectric; Se passivation; Ge

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Enhanced tunneling properties of band-engineered (HfO2)x(SiO2)1−x/SiO2 double dielectric layers for non-volatile flash memory device

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Tunnel barrier; Double layer; Hf-silicate; Non-volatile; Memory;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Effect of interfacial fluorination on the electrical properties of the inter-poly high-k dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; Flash memory; Fluorine; High-k dielectric; Inter-poly

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Schottky barrier SOI-MOSFETs with high-k La2O3/ZrO2 gate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; Atomic layer deposition; Lanthanum-oxide (La2O3); Zirconium-oxide (ZrO2); High-k dielectric; Schottky-barrier MOSFET; Silicon-on-insulator;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Highly scaled (Lg ∼ 56 nm) gate-last Si tunnel field-effect transistors with ION > 100 μA/μm

Keywords: دی الکتریک بالا K; Band-to-band tunneling; Gated p-i-n diode; High-k dielectric; Kane's model; Subthreshold swing; Tunnel field-effect transistor;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Enhanced leakage current behavior of Sr2Ta2O7−x/SrTiO3 bilayer dielectrics for metal–insulator–metal capacitors

Keywords: دی الکتریک بالا K; MIM capacitor; High-k dielectric; Leakage current density

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Band alignment of metal-oxide-semiconductor structure by internal photoemission spectroscopy and spectroscopic ellipsometry

Keywords: دی الکتریک بالا K; Internal photoemission; Spectroscopic ellipsometry; High-k dielectric; Metal gate; MOS; Band offsets; Band alignment; Interface;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Electrical and physical characteristics of HfLaON-gated metal–oxide-semiconductor capacitors with various nitrogen concentration profiles

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Charge trapping; Current-conduction; Nitrogen concentration profiles (NCPs); Metal–oxide-semiconductor (MOS)

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Rare earth-based high-k materials for non-volatile memory applications

Keywords: دی الکتریک بالا K; Non-volatile memory; Atomic layer deposition; High-k dielectric; Rare earth oxide

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Effects of N2 and NH3 remote plasma nitridation on the structural and electrical characteristics of the HfO2 gate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; Hafnium; HfOxNy; High-k dielectric; Plasma nitridation;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Effects of fluorine incorporation on the properties of Ge p-MOS capacitors with HfTiON dielectric

Keywords: دی الکتریک بالا K; Ge; MOS; High-k dielectric; Fluorine passivation

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Physical and electrical characteristics of band-engineered Zr-silicate/SiO2 stacks for tunnel barrier

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Tunnel barrier; Zr-silicate; Nonvolatile; Memory

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

MOSFET characteristics with poly-Si/HfAlON gate stacks using ultra-thin UV-ozone interfacial oxide

Keywords: دی الکتریک بالا K; HfAlON; High-k dielectric; Ozone oxide

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

The influence of lanthanum doping position in ultra-thin HfO2 films for high-k gate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; X-ray reflectivity; X-ray diffraction; Flatband voltage shift; Conduction mechanism

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Characterization of the interface between the Hf-based high-k thin film and the Si using spatially resolved electron energy-loss spectroscopy

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Interface; Electron energy-loss spectroscopy; HfO2; HfAlO

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Atomic layer deposition of high capacitance density Ta2O5–ZrO2 based dielectrics for metal–insulator–metal structures

Keywords: دی الکتریک بالا K; Nanolaminates; Atomic layer deposition; High-k dielectric

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Improving the dielectric constant of Al2O3 by cerium substitution for high-k MIM applications

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Cerium aluminate; Thin film growth; Molecular beam deposition; X-ray photoelectron spectroscopy;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Surface passivation of III-V semiconductors for future CMOS devices-Past research, present status and key issues for future

Keywords: دی الکتریک بالا K; 71.20.Nr; 71.55.Eq; 73.21.Hb; 73.40.Gk; 73.40.Kp; III-V semiconductor; Surface passivation; MISFET; High-k dielectric; Photoluminescence; GaAs;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 10 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Performance improvement of flash memory using AlN as charge-trapping Layer

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Threshold voltage shift; AlN; Pulse

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Scaling potential and MOSFET integration of thermally stable Gd silicate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Rare earth silicate; Gate first integration; Silicate formation

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Characterization of interfacial reaction and chemical bonding features of LaOx/HfO2 stack structure formed on thermally-grown SiO2/Si(1 0 0)

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; HfO2; LaOx; Interfacial reaction; X-ray photoelectron spectroscopy

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Impact of interface variations on J–V and C–V polarity asymmetry of MIM capacitors with amorphous and crystalline Zr(1−x)AlxO2 films

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Atomic layer deposition; MIM capacitor; X-ray photoelectron spectroscopy

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Modeling complexity of a complex gate oxide

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; Theory; Density functional; Oxygen vacancy; Band alignment; Gate stack; CMOS

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

High performance TaYOx-based MIM capacitors

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectric; MIM capacitor; RF sputter deposition; TaYOx

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Density functional theory study of first-layer adsorption of ZrO2 and HfO2 on Ge(1 0 0)

Keywords: دی الکتریک بالا K; Ge; Germanium; MOSFET; High-k dielectric; Zirconium oxide; Hafnium oxide; Semiconductor-oxide interface

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 10 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Current tunnelling through MOS devices

Keywords: دی الکتریک بالا K; Tunnelling; High-k dielectric; I–V; Trap

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

High-k TixSi1−xO2 thin films prepared by co-sputtering method

Keywords: دی الکتریک بالا K; 68.37.Lp; 71.55.−i; 72.20.−i; 77.55.+f; 77.84.Bw; 81.15.Cd; 82.80.Pv; 84.37.+q; 85.30.TvTiO2; SiO2; Co-sputtering; High-k dielectric; Chemical bonding state

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Surface passivation technology for III-V semiconductor nanoelectronics

Keywords: دی الکتریک بالا K; 71.20.Nr; 71.55.Eq; 73.21.Hb; 73.40.Gk; 73.40.Kp; III-V Semiconductor; Surface passivation; Nanoelectronics; MOS structure; High-k dielectric; GaAs;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Anodic Ta2O5 for CMOS compatible low voltage electrowetting-on-dielectric device fabrication

Keywords: دی الکتریک بالا K; MEMS; Microfluidics; EWOD; Electrowetting; CMOS; Tantalum pentoxide; High-K dielectric; Post-process

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

SiC MOSFETs with thermally oxidized Ta2Si stacked on SiO2 as high-k gate insulator

Keywords: دی الکتریک بالا K; SiC; Ta2Si; Tantalum silicide; Oxidation; High-k dielectric; MOSFET

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

A new definition of threshold voltage in Tunnel FETs

Keywords: دی الکتریک بالا K; Band-to-band tunneling; Double gate; Gated p-i-n diode; High-k dielectric; Scaling; Subthreshold swing; Threshold voltage; Tunnel field effect transistor

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Use of Al2O3 as inter-poly dielectric in a production proven 130 nm embedded Flash technology

Keywords: دی الکتریک بالا K; Floating gate Flash; Inter-poly dielectric; High-k dielectric; Aluminum oxide;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Pulsed laser deposition and characterization of Hf-based high-k dielectric thin films

Keywords: دی الکتریک بالا K; Hafnium dioxide; Pulsed laser deposition; XAFS; High-k dielectric

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Fabrication and electrical characterization of a MOS memory device containing self-assembled metallic nanoparticles

Keywords: دی الکتریک بالا K; 85.35.Gv; 73.23; 68.37; 81.16.Dn; 81.15.Ef; 85.30Nanoparticles; Memory devices; Nanocrystals; Metallic; High-k dielectric

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Advance in next Century nanoCMOSFET research

Keywords: دی الکتریک بالا K; 73.40.Qv; 73.61.At; 73.61.Ng; 77.55.+f; Nano; MOSFET; High-k dielectric; Metal gate;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Length scaling of the Double Gate Tunnel FET with a high-K gate dielectric

Keywords: دی الکتریک بالا K; Band-to-band tunneling; Double gate; Gated p–i–n diode; High-K dielectric; Scaling; Subthreshold swing; Tunnel field effect transistor

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Characterization and reliability measurement issues in devices with novel gate stack devices

Keywords: دی الکتریک بالا K; Transient charging effects; High-k dielectric; Relaxation

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Al-oxynitrides as a buffer layer for Pr2O3/SiC interfaces

Keywords: دی الکتریک بالا K; Aluminum-nitride; High-k dielectric; Praseodymium oxide; SR-PES

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه