![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Pulsed-radio frequency plasma enhanced chemical vapour deposition of low temperature silicon nitride for thin film transistors
Keywords: ترانزیستورهای فیلم نازک; Thin film transistors; Silicon nitride; Pulsed-RF plasma-enhanced chemical vapour deposition; Growth mechanism; Surface diffusion length; Microstructure; Surface smoothening; Height-to-height correlation function;