آشنایی با موضوع

کاشت یون (به انگلیسی: ion implantation) فرایندی در مهندسی مواد است که در آن یون‌های برخی مواد را می‌توان در ماده‌ای دیگر کاشت و ویژگی‌های فیزیکی آن ماده را تغییر داد. این فرایند در ساخت نیمه‌رساناها و پرداخت فازها کاربرد دارد. کاشت یونی یک فرایند در دمای پایین است که توسط آن یونهای یک عنصر به یک هدف جامد شتاب می یابند، در نتیجه خواص فیزیکی، شیمیایی یا الکتریکی هدف را تغییر می دهند. کاشت یون در ساخت دستگاه نیمه هادی و در تکمیل فلزات، و همچنین در تحقیقات علمی مواد استفاده می شود. اگر یون ها متوقف شوند و در هدف قرار گیرند می توانند ترکیب عنصری هدف را تغییر دهند (اگر یون ها در ترکیب از هدف متفاوت باشند). وقتی که یون ها در اثر افزایش انرژی در هدف قرار می گیرند، کاشت یون باعث تغییرات شیمیایی و فیزیکی می شود. ساختار بلوری هدف می تواند توسط آبشارهای برخورد پر انرژی آسیب دیده و یا حتی تخریب شود و یون های انرژی کافی (10S MeV) می توانند باعث انتقال اتمی شوند.
در این صفحه تعداد 2768 مقاله تخصصی درباره کاشت یون که در نشریه های معتبر علمی و پایگاه ساینس دایرکت (Science Direct) منتشر شده، نمایش داده شده است. برخی از این مقالات، پیش تر به زبان فارسی ترجمه شده اند که با مراجعه به هر یک از آنها، می توانید متن کامل مقاله انگلیسی همراه با ترجمه فارسی آن را دریافت فرمایید.
در صورتی که مقاله مورد نظر شما هنوز به فارسی ترجمه نشده باشد، مترجمان با تجربه ما آمادگی دارند آن را در اسرع وقت برای شما ترجمه نمایند.
مقالات ISI کاشت یون (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.